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電子級三甲基氯硅烷工藝裝置主要由溶解釜、加料釜、反應釜、接收罐、堿液釜和渣漿釜等組成。 其主要儀表及管閥件均采用高性能產(chǎn)品，裝置非標采用耐腐蝕材質(zhì)。PLC 系統(tǒng)采集確保操作人員安全。 裝置的整體水平要求自動化程度高，數(shù)據(jù)精確度及重復性好，安全可靠 并能長周期穩(wěn)定運行

超臨界高溫高壓反應釜，主要用來評價、研究工藝過程，探索最佳工藝參數(shù)，經(jīng)取樣分析、評價、數(shù)據(jù)處理，獲取產(chǎn)品分布、產(chǎn)品性質(zhì)等數(shù)據(jù)，為中試及工業(yè)化工藝設(shè)計提供設(shè)計基礎(chǔ)數(shù)據(jù)。 裝置非標采用耐腐蝕材質(zhì)，裝置采用 PLC 控制系統(tǒng)，配置多級關(guān)鍵的保護系統(tǒng)，確保裝置的設(shè)備和操作人員的安全。

連續(xù)式反應器，主要用來評價、研究工藝過程，探索最佳工藝參數(shù)，經(jīng)取樣分析、評價、數(shù)據(jù)處理，獲取產(chǎn)品分布、 產(chǎn)品性質(zhì)等數(shù)據(jù)，為中試及工業(yè)化工藝設(shè)計提供設(shè)計基礎(chǔ)數(shù)據(jù)。裝置的整體水平要求自動化程度高，數(shù)據(jù)精確度及重復性好，安全可靠并能長周期穩(wěn)定運行。

光催化膜分離裝置是一套高效的反應釜評測系統(tǒng)。系統(tǒng)包括氣體控制模塊,溫度控制模塊、反應釜模塊、液體模塊等。 系統(tǒng)為用戶的原料相態(tài)提供選擇，1路氣體或者是氣體和液體的組合。液體通過反應釜上加料罐或者液體泵輸送到反應器前的催化劑罐中。對于液態(tài)的原料，它經(jīng)由專用工具及專人，裝入反應釜裝置內(nèi)。

濕式氧化實驗裝置，具有耐壓、耐腐蝕、耐一定溫度的特性。攪拌方式為環(huán)形永磁驅(qū)動靜密封，攪拌力強，無泄露。適用于石油，化工，制藥，染料，軍工，礦冶，食品等行業(yè)的科研院所，和大專院校的科研領(lǐng)域，尤其適用于大專院校對學生進行示范性試驗。